单选题浸入式光刻技术可以使193nm光刻工艺的最小线宽减小到45nm以下。它通过采用折射率高的液体代替透镜组件间的空气,达到()的目的。A增大光源波长;B减小光源波长;C减小光学系统数值孔径;D增大光学系统数值孔径。
单选题
浸入式光刻技术可以使193nm光刻工艺的最小线宽减小到45nm以下。它通过采用折射率高的液体代替透镜组件间的空气,达到()的目的。
A
增大光源波长;
B
减小光源波长;
C
减小光学系统数值孔径;
D
增大光学系统数值孔径。
参考解析
解析:
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问答题后光刻时代有那些光刻新技术?