判断题最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A对B错
判断题
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
A
对
B
错
参考解析
解析:
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相关考题:
在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,它的优点在于()。A、CA光刻胶对深紫外光吸收小B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强D、有较高的光敏度E、有较高的对比度
问答题在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么?