问答题简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。

问答题
简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。

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解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么?

在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,它的优点在于()。A、CA光刻胶对深紫外光吸收小B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强D、有较高的光敏度E、有较高的对比度

例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。

晶片经过显影后进行坚膜,坚膜的主要作用有()。A、除去光刻胶中剩余的溶剂B、增强光刻胶对晶片表面的附着力C、提高光刻胶的抗刻蚀能力D、有利于以后的去胶工序E、减少光刻胶的缺陷

名词解释题光刻胶

填空题光刻中影响甩胶后光刻胶膜厚的因素有()、()、()、()。

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判断题最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A对B错

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