根据曝光方式的不同，光学光刻机可以分成几类？各有什么优缺点？
解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？
解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
述5次光刻中第5次像素电极光刻形成的ITO的作用。
问答题解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？
填空题光刻中影响甩胶后光刻胶膜厚的因素有（）、（）、（）、（）。
问答题简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。
判断题最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A对B错
判断题先进集成电路加工中，主要采用投影式光刻曝光技术。A对B错
填空题光刻的图形曝光方式有：接触式曝光、接近式曝光和（）曝光。
问答题什么是光刻加工技术？试简述光刻加工的原理和工艺流程。