单选题浸入式光刻技术可以使193nm光刻工艺的最小线宽减小到45nm以下。它通过采用折射率高的液体代替透镜组件间的空气，达到（）的目的。A增大光源波长；B减小光源波长；C减小光学系统数值孔径；D增大光学系统数值孔径。
单选题
浸入式光刻技术可以使193nm光刻工艺的最小线宽减小到45nm以下。它通过采用折射率高的液体代替透镜组件间的空气，达到（）的目的。
A
增大光源波长；
B
减小光源波长；
C
减小光学系统数值孔径；
D
增大光学系统数值孔径。
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解析：
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