光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪几种?()。A.压印式光刻B.投影式光刻C.接近式光刻D.接触式光刻

光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪几种?()。

A.压印式光刻

B.投影式光刻

C.接近式光刻

D.接触式光刻


参考答案和解析
接触式光刻;接近式光刻;投影式光刻

相关考题:

根据曝光方式的不同,光学光刻机可以分成几类?各有什么优缺点?

光刻工艺一般都要经过涂胶、()、曝光、()、坚膜、腐蚀、()等步骤。

光刻的主要工艺流程按照操作顺序是()。A、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶B、涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶C、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶D、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶

在深紫外曝光中,需要使用()光刻胶。A、DQNB、CAC、ARCD、PMMA

在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,它的优点在于()。A、CA光刻胶对深紫外光吸收小B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强D、有较高的光敏度E、有较高的对比度

试分析在背沟道阻挡结构的第二次光刻中,采用了背曝光为什么还要采用一次曝光?直接使用一次曝光不行吗?

光刻加工的工艺过程为()A、①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗B、①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散C、①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原

例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。

在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,CA的含义是()。A、化学增强B、化学减弱C、厚度增加D、厚度减少

光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是()A、电子束曝光技术B、离子束曝光技术C、X射线曝光技术

问答题光刻的曝光方式有几种?各有何特点?

单选题光刻加工的工艺过程为:()A①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗B①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散C①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原

问答题光刻工艺的主要流程有哪几步?什么是光刻工艺的分辨率?从物理角度看,限制分辨率的因素是什么?最常用的曝光光源是什么?

判断题如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶,则这种光刻胶为正胶。A对B错

问答题列举下一代光刻技术中4种正在研发的光刻技术。

填空题光学光刻机的主要曝光光线的是波长为()的g线和()的i线,适合1微米以上特征尺寸的光刻。常用()的KrF和()的ArF准分子激光做1微米以下特征尺寸的光刻光源。

填空题集成电路制造工艺技术主要包括:热工艺、()、光刻、清洗与刻蚀、金属化、表面平坦化。

填空题光刻胶的三种主要成分是:()。正胶的感光剂是(),曝光使其(),正胶的曝光区在显影后(); 曝光使负胶的感光剂(),使曝光区在显影后()。

判断题先进集成电路加工中,主要采用投影式光刻曝光技术。A对B错

问答题典型的DUV光刻胶曝光剂量的宽容度是多少?

填空题光刻包括两种基本的工艺类型:负性光刻和(),两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同,前者是(),后者是()。

问答题常见的光刻对准曝光设备有?

填空题光刻的图形曝光方式有:接触式曝光、接近式曝光和()曝光。

问答题列出并描述光刻中使用的两种UV曝光光源。

问答题例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。

单选题光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是()。A电子束曝光技术B离子束曝光技术CX射线曝光技术

问答题光刻加工技术的基本过程通常包括哪些步骤?

多选题以下属于光刻工艺的为:()。A光刻胶涂覆B曝光C显影D腐蚀