根据曝光方式的不同，光学光刻机可以分成几类？各有什么优缺点？

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最通常的半导体材料是什么？该材料使用最普遍的原因是什么？
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将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触，再用紫外光照射来进行曝光的方法，称为（）曝光。A、接触B、接近式C、投影
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典型的GaAsMESFET结构IC的工艺流程？
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下列晶体管结构中，在晶体管输出电流很大时常使用的是：（）A、单基极条图形B、双基极条图形C、基极和集电极引线孔都是马蹄形结构D、梳状结构
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描述净化间的舞厅式布局。
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例举并描述硅片拣选测试中的三种典型电学测试。
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解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
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什么是固相外延（SPE）及固相外延中存在的问题？
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