光刻加工的工艺过程为()A、①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗B、①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散C、①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原
光刻加工的工艺过程为()
- A、①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗
- B、①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散
- C、①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原
相关考题:
光刻的主要工艺流程按照操作顺序是()。A、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶B、涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶C、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶D、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶
未曝光的AgBr在显影液中不被还原的原因是()。A、由于Br-离子被吸附在AgBr表面,排斥了显影剂负离子对未曝光的AgBr的还原作用B、由于未曝光的AgBr晶体中含Ag+的质点较小,催化作用弱C、由于显影温度、时间、pH值适当D、A、B和C
静电数字印刷其成像基本过程为()A、曝光→充电→显影→转移→定像→清理。B、转移→充电→曝光→显影→定像→清理。C、显影→充电→曝光→转移→定像→清理。D、充电→曝光→显影→转移→定像→清理。
单选题不论正胶或负胶,光刻过程中都包括如下步骤: 1.刻蚀 2.前烘 3..显影 4.去胶 5.涂胶 6.曝光 7.坚膜 以下选项排列正确的是:()。A2561437B5263471C5263741D5263714。
单选题静电数字印刷其成像基本过程为()A曝光→充电→显影→转移→定像→清理。B转移→充电→曝光→显影→定像→清理。C显影→充电→曝光→转移→定像→清理。D充电→曝光→显影→转移→定像→清理。
多选题以下属于光刻工艺的为:()。A光刻胶涂覆B曝光C显影D腐蚀