填空题常规集成电路平面制造工艺主要由（）、（）、（）、（）、（）等工艺手段组成。

填空题
常规集成电路平面制造工艺主要由（）、（）、（）、（）、（）等工艺手段组成。

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工艺美的获得主要是依靠制造工艺和装饰工艺两种手段。() 此题为判断题(对，错)。
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采煤工艺主要由（）五个工序组成。
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按照制造工艺可分为半导体集成电路、薄膜集成电路和（）集成电路。A、数字B、厚膜C、小规模D、专用
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按制造工艺集成电路分为（）。A、半导体集成电路B、TTL集成电路C、厚膜集成电路D、薄膜集成电路E、CMOS集成电路
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镗削工艺系统主要由镗床、夹具和（）等组成。A、刀具B、量具C、工件
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集成电路是微电子技术的核心，它是以先进的工艺和具体技术为基础的高科技，没有扩散工艺、平面工艺等的技术突破，集成电路是不可能成功的，第一块集成电路诞生于哪一年（）A、1945年B、1956年C、1958年D、1960年
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油脂添加工艺主要由储油罐、（）、（）、（）、（）及液压元件等组成。
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集成电路由（）、（）、（）等组成，集中制造在一个芯片上，目前的超大规模集成电路芯片，其制造工艺已达到（）微米级程度。
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填空题集成电路由（）、（）、（）等组成，集中制造在一个芯片上，目前的超大规模集成电路芯片，其制造工艺已达到（）微米级程度。
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