问答题何为分辨率、对比度、IC制造对光刻技术有何要求?
问答题
何为分辨率、对比度、IC制造对光刻技术有何要求?
参考解析
解析:
暂无解析
相关考题:
在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,它的优点在于()。A、CA光刻胶对深紫外光吸收小B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强D、有较高的光敏度E、有较高的对比度
判断题曝光波长的缩短可以使光刻分辨率线性提高,但同时会使焦深线性减小。如果增大投影物镜的数值孔径,那么在提高光刻分辨率的同时,投影物镜的焦深也会急剧减小,因此在分辨率和焦深之间必须折衷。A对B错
问答题后光刻时代有那些光刻新技术?