填空题光刻工艺的分辨率决定于：（）和曝光、显影、刻蚀条件的正确控制。正胶的分辨率（）于负胶的分辨率；光刻胶越薄，分辨率越（）。
填空题
光刻工艺的分辨率决定于：（）和曝光、显影、刻蚀条件的正确控制。正胶的分辨率（）于负胶的分辨率；光刻胶越薄，分辨率越（）。
参考解析
解析：
暂无解析
相关考题：
CT扫描层厚对空间分辨率和密度分辨率的影响，正确的是A、层厚越薄，空间分辨率和密度分辨率越高B、层厚越厚，空间分辨率和密度分辨率越高C、层厚越薄，空间分辨率越高，密度分辨率越低D、层厚越薄，空间分辨率越低，密度分辨率越高E、以上说法均不对
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。A、CA光刻胶对深紫外光吸收小B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强D、有较高的光敏度E、有较高的对比度
关于空间分辨率的影响因素，下列叙述中正确的是（ ）A、频率越高，则纵向分辨率越差B、实际上，轴向分辨率约为波长的1/2C、横向分辨率仅与声束宽度有关D、声束越宽，侧向分辨率越差E、近场与远场的空间分辨率相同
关于正胶和负胶的特点，下列说法正确的是（）。A、正胶在显影时不会发生膨胀，因此分辨率高于负胶B、正胶的感光区域在显影时不溶解，负胶的感光区域在显影时溶解C、负胶在显影时不会发生膨胀，因此分辨率不会降低D、正胶的感光区域在显影时溶解，负胶的感光区域在显影时不溶解E、负胶在显影时会发生膨胀，导致了分辨率的降低
单选题关于空间分辨率的影响因素，下列叙述中正确的是（ ）A频率越高，则纵向分辨率越差B实际上，轴向分辨率约为波长的1/2C横向分辨率仅与声束宽度有关D声束越宽，侧向分辨率越差E近场与远场的空间分辨率相同
多选题以下属于光刻工艺的为：（）。A光刻胶涂覆B曝光C显影D腐蚀