单选题在较先进的集成电路制造工艺中,通常采()来实现掺杂。A刻蚀B离子注入C光刻D金属化
单选题
在较先进的集成电路制造工艺中,通常采()来实现掺杂。
A
刻蚀
B
离子注入
C
光刻
D
金属化
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