12、集成电路的制造工艺中需要采用隔离技术，常见的隔离方法有 。A．外延隔离B．埋层隔离C．PN结隔离D．介质隔离

12、集成电路的制造工艺中需要采用隔离技术，常见的隔离方法有 。

A．外延隔离

B．埋层隔离

C．PN结隔离

D．介质隔离

参考答案和解析
CMOS

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在人员密集场所的活动中，设置隔离区通常采用的方法包括()。A.穿插隔离B.包围隔离C.设置隔离带D.单向隔离E.事先划定隔离区
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根据电网的隔离需要,生产控制类业务采用(),管理类业务采用()。 A、硬隔离，硬隔离B、硬隔离，软隔离C、软隔离，软隔离D、软隔离，硬隔离
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在大型活动保卫工作中，保安员所采取的事先划定隔离区的方法有()。A.划线隔离B.利用专用设施隔离C.采用人墙隔离D.利用汽车隔离E.活动进行中设置隔离区
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近年采用的隔离预防方法是()A.接触隔离与空气隔离B.A系统--7种隔离方法C.B系统--按病采取相应隔离方法D.普遍预防的策略E.标准预防的隔离方法
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请简述工艺、气动、化学、热源隔离的物理隔离方法。
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集成电路制造中有哪几种常见的扩散工艺？各有什么优缺点？
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在大型活动保卫工作中，保安员所采取的事先划定隔离区的方法有（）。A、划线隔离B、利用专用设施隔离C、采用人墙隔离D、利用汽车隔离E、活动进行中设置隔离区
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半导体集成电路生产中，元件之间隔离有（）（）（）隔离等三种基本方法.
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扩散工艺在现在集成电路工艺中仍然是是一项重要的集成电路工艺，现在主要被用来制作（）。A、埋层B、外延C、PN结D、扩散电阻E、隔离区
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在大规模集成电路的制造中，更多采用的是MOS工艺集成电路，而不是双极型集成电路。
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基于SQL代理的信息安全网络隔离装置采用的隔离技术是（）。A、协议隔离B、物理隔离C、应用隔离D、数据隔离
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PLC由于采用现代大规模集成电路技术，采用严格的生产工艺制造，内部电路采取了先进的抗干扰技术，具有很高的可靠性。
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关于隔离风险单位这种风险处理技术，叙述正确的有（）。A、隔离风险单位包括分割风险单位、复制风险单位B、采用隔离风险单位的费用较低，经常采用C、采用隔离风险单位的费用较高，较少采用D、隔离风险单位目的在于减少风险单位本身的损失E、隔离风险单位目的在于减少总体损失程度
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隔离网闸采用的是物理隔离技术。
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工艺系统管线的检修常采用的机械隔离方式不包括（）。A、双阀隔离及放泄法B、单阀隔离C、单阀隔离加盲板D、对大气放空
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问答题列举两种集成电路制造中的器件隔离结构，并比较其优缺点。
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填空题半导体器件隔离的种类有：（）；（）和（）三种。P-N结隔离适合（）的器件。目前大多数CMOS器件采用（）隔离，绝缘介质场区氧化层采用（）工艺生长。
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填空题常规硅集成电路平面制造工艺中光刻工序包括的步骤有（）、（）、（）、（）、（）、（）、（）等。
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多选题在大型活动保卫工作中，保安员所采取的事先划定隔离区的方法有（）。A划线隔离B利用专用设施隔离C采用人墙隔离D利用汽车隔离E活动进行中设置隔离区
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问答题在双极集成电路制造中，为什么要采用外延和埋层工艺？
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判断题集成电路制造工艺中隔离扩散的深度可以不超过外延层的厚度。A对B错
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问答题简述集成电路制造中的四种隔离技术
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填空题集成电路制造中掺杂类工艺有（）和（）两种。
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多选题关于隔离风险单位这种风险处理技术，叙述正确的有（）。A隔离风险单位包括分割风险单位、复制风险单位B采用隔离风险单位的费用较低，经常采用C采用隔离风险单位的费用较高，较少采用D隔离风险单位目的在于减少风险单位本身的损失E隔离风险单位目的在于减少总体损失程度
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问答题PN结隔离的双极集成电路工艺需要几次光刻，每次光刻目的是什么？
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单选题目前国际上较为推崇的隔离预防技术为（　　）。AA隔离系统B标准预防技术CB隔离系统（按疾病需要设计的隔离技术）D保护性隔离系统E普遍隔离预防技术
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问答题集成电路制造工艺中，主要有哪两种隔离工艺？目前的主流深亚微米隔离工艺是哪种器件隔离工艺，为什么？
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判断题PLC由于采用现代大规模集成电路技术，采用严格的生产工艺制造，内部电路采取了先进的抗干扰技术，具有很高的可靠性。A对B错
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