解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？
解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
问答题解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？
问答题简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。
问答题光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？
判断题最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A对B错
填空题光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。
问答题简述接触式光刻、接近式光刻及投影式光刻的优缺点。
问答题PN结隔离的双极集成电路工艺需要几次光刻，每次光刻目的是什么？
问答题为什么说光刻是IC制造中最重要的工艺？光刻的三个要素是什么？
问答题什么是光刻加工技术？试简述光刻加工的原理和工艺流程。