刻蚀技术分湿法刻蚀和干法刻蚀两种,湿法刻蚀是指化学腐蚀,干法刻蚀容易出现钻蚀问题。

刻蚀技术分湿法刻蚀和干法刻蚀两种,湿法刻蚀是指化学腐蚀,干法刻蚀容易出现钻蚀问题。


参考答案和解析
湿法刻蚀设备简单、工艺操作方便,一般的常规生产均能满足要求,但各向同性刻蚀性太强,难以控制线宽,而且刻蚀剂大多为腐蚀性较强的试剂,安全性较差; 物理性干法刻蚀方向性好、可获得接近垂直的刻蚀侧墙,但因为离子的溅击面太广,掩蔽层也遭到刻蚀,使得刻蚀选择性降低,另外,被击出的是非挥发性物质,容易再次淀积,使刻蚀速率降低;化学性干法刻蚀选择比高但却是各向同性刻蚀,线宽控制性差。

相关考题:

铜与氯形成的化合物挥发能力不好,因而铜的刻蚀无法以化学反应来进行,而必须施以()。A、等离子体刻蚀B、反应离子刻蚀C、湿法刻蚀D、溅射刻蚀

简述干法刻蚀的物理作用和化学作用。

反应离子腐蚀是()。A、化学刻蚀机理B、物理刻蚀机理C、物理的溅射刻蚀和化学的反应刻蚀相结合

干法刻蚀的目的是什么?例举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点。干法刻蚀的不足之处是什么?

根据原理分类,干法刻蚀分成几种?各有什么特点?

微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种()。A、干法刻蚀、湿法刻蚀B、离子束刻蚀、激光刻蚀C、溅射加工、直写加工D、以上都可以

由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的,所以其()就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。A、刻蚀速率B、选择性C、各向同性D、各向异性

问答题二氧化硅,铝,硅和光刻胶刻蚀分别使用什么化学气体来实现干法刻蚀?

单选题微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种()。Aa.离子束刻蚀、激光刻蚀Bb.干法刻蚀、湿法刻蚀Cc.溅射加工、直写加工

判断题通常湿法刻蚀的刻蚀轮廓比干法刻蚀好。A对B错

问答题列出按材料分类的三种主要干法刻蚀。

问答题简述法刻蚀的优缺点(与湿法刻蚀比)。

问答题简述什么是干法刻蚀与湿法刻蚀。

问答题什么是干法刻蚀?干法有几种刻蚀方法?

判断题与干法刻蚀相比,湿法腐蚀的好处在于对下层材料具有高的选择比,对器件不会带来等离子体损伤,并且设备简单。A对B错

填空题在干法刻蚀中发生刻蚀反应的三种方法是()、()和()。

问答题简述湿法腐蚀相比干法刻蚀的优点

问答题干法刻蚀有高的还是低的选择比?

问答题简述干法刻蚀的应用

问答题列举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点,干法刻蚀的不足之处是什么?

问答题什么是干法刻蚀?

问答题列出在干法刻蚀中发生刻蚀反应的六种方法?

填空题干法刻蚀适用于() (粗/细)线条。

问答题什么是湿法刻蚀?

问答题湿法刻蚀和干法刻蚀的区别?

判断题干法刻蚀是亚微米尺寸下刻蚀器件的最主要方法,湿法腐蚀一般只是用在尺寸较大的情况下刻蚀器件,例如大于3微米。A对B错

判断题高密度等离子体刻蚀机是为亚0.25微米图形尺寸而开发的最重要的干法刻蚀系统。A对B错

问答题什么是干法刻蚀?什么是湿法刻蚀?比较二者的优缺点。