填空题在干法刻蚀中发生刻蚀反应的三种方法是()、()和()。
填空题
在干法刻蚀中发生刻蚀反应的三种方法是()、()和()。
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解析:
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下列有关ARC工艺的说法正确的是()。A、ARC可以是硅的氮化物B、可用干法刻蚀除去C、ARC膜可以通过PVD或者CVD的方法形成D、ARC在刻蚀中也可做为掩蔽层E、ARC膜也可以通过CVD的方法形成
问答题什么是干法刻蚀?什么是湿法刻蚀?比较二者的优缺点。