问答题光刻胶正胶和负胶的区别是什么？

问答题
光刻胶正胶和负胶的区别是什么？

参考解析

解析： 暂无解析

相关考题：

在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？
查看答案
解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
查看答案
解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
查看答案
有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。A、负胶受显影液的影响比较小B、正胶受显影液的影响比较小C、正胶的曝光区将会膨胀变形D、使用负胶可以得到更高的分辨率E、负胶的曝光区将会膨胀变形
查看答案
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。A、CA光刻胶对深紫外光吸收小B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强D、有较高的光敏度E、有较高的对比度
查看答案
感光胶分为正性胶和负性胶，简述它们是如何定义。
查看答案
例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
查看答案
关于正胶和负胶在显影时的特点，下列说法正确的是（）。A、负胶的感光区域溶解B、正胶的感光区域溶解C、负胶的感光区域不溶解D、正胶的感光区域不溶解E、负胶的非感光区域溶解
查看答案
晶片经过显影后进行坚膜，坚膜的主要作用有（）。A、除去光刻胶中剩余的溶剂B、增强光刻胶对晶片表面的附着力C、提高光刻胶的抗刻蚀能力D、有利于以后的去胶工序E、减少光刻胶的缺陷
查看答案
关于正胶和负胶的特点，下列说法正确的是（）。A、正胶在显影时不会发生膨胀，因此分辨率高于负胶B、正胶的感光区域在显影时不溶解，负胶的感光区域在显影时溶解C、负胶在显影时不会发生膨胀，因此分辨率不会降低D、正胶的感光区域在显影时溶解，负胶的感光区域在显影时不溶解E、负胶在显影时会发生膨胀，导致了分辨率的降低
查看答案
用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶（）。A、ARCB、HMDSC、正胶D、负胶
查看答案
问答题什么是负胶分辨率的限制，哪种胶应用在亚微米光刻胶中？
查看答案
问答题简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。
查看答案
问答题什么是正光刻胶，负光刻胶？
查看答案
问答题什么是负光刻胶？
查看答案
问答题解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
查看答案
问答题简述正胶和负胶显影效果
查看答案
填空题光刻工艺的分辨率决定于：（）和曝光、显影、刻蚀条件的正确控制。正胶的分辨率（）于负胶的分辨率；光刻胶越薄，分辨率越（）。
查看答案
问答题简述正胶和负胶区别。
查看答案
问答题负性和正性光刻胶有什么区别和特点？
查看答案
问答题简述正性胶和负性胶的作用原理。
查看答案
问答题例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
查看答案
判断题如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。A对B错
查看答案
判断题最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A对B错
查看答案
填空题光刻胶的三种主要成分是：（）。正胶的感光剂是（），曝光使其（），正胶的曝光区在显影后（）； 曝光使负胶的感光剂（），使曝光区在显影后（）。
查看答案
填空题光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。
查看答案
问答题在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？
查看答案
热门标签