21、投影式光刻技术主要包括： 。A．扫描投影B．步进投影C．扫描步进投影D．接触投影

21、投影式光刻技术主要包括： 。

A．扫描投影

B．步进投影

C．扫描步进投影

D．接触投影

参考答案和解析
扫描投影;步进投影;扫描步进投影

相关考题：

激光蚀刻技术可以分为（）A、激光刻划标码技术B、激光掩模标码技术C、红光刻划标码技术D、激光渗透标码技术
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激光刻划标码技术的主要特点有高灵活性、标码面积大和标码容量高。
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解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？
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光刻中采用步进扫描技术获得了什么好处？
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试述光刻加工的主要阶段？
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微细加工工艺方法主要有：（），光刻加工，体刻蚀加工技术，面刻蚀加工技术，LIGA技术，（）和（）。
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阐述立体光刻技术的具体实现方法？
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光刻技术
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选择性液体固化方法包括（）。A、立体光刻B、喷墨印刷C、实体磨固化D、激光光刻E、选择性激光烧结
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名词解释题光刻技术
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问答题解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？
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填空题光学光刻机主要有（）等几种。非光学光刻机主要有（）。
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单选题微传感器的加工工艺不包括（）。A光刻技术BHARQ技术C半导体掺杂技术DLIGA技术
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多选题激光蚀刻技术可以分为（）A激光刻划标码技术B激光掩模标码技术C红光刻划标码技术D激光渗透标码技术
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问答题什么是光刻？光刻的主要流程有哪些？
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问答题列举下一代光刻技术中4种正在研发的光刻技术。
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填空题集成电路制造工艺技术主要包括：热工艺、（）、光刻、清洗与刻蚀、金属化、表面平坦化。
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判断题先进集成电路加工中，主要采用投影式光刻曝光技术。A对B错
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判断题曝光波长的缩短可以使光刻分辨率线性提高，但同时会使焦深线性减小。如果增大投影物镜的数值孔径，那么在提高光刻分辨率的同时，投影物镜的焦深也会急剧减小，因此在分辨率和焦深之间必须折衷。A对B错
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填空题光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。
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问答题什么是光刻，光刻系统的主要指标有那些？
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填空题光刻的图形曝光方式有：接触式曝光、接近式曝光和（）曝光。
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问答题简述接触式光刻、接近式光刻及投影式光刻的优缺点。
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填空题微细加工工艺方法主要有：（），光刻加工，体刻蚀加工技术，面刻蚀加工技术，LIGA技术，（）和（）。
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问答题光学光刻技术的改进有哪些方面？
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问答题什么是光刻加工技术？试简述光刻加工的原理和工艺流程。
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问答题光刻加工技术的基本过程通常包括哪些步骤？
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问答题后光刻时代有那些光刻新技术？
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