解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
光刻胶的光学稳定通过（）来完成的。A、红外线辐射B、X射线照射C、加热D、紫外光辐射E、电子束扫描
在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。A、DQNB、CAC、ARCD、PMMA
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。A、CA光刻胶对深紫外光吸收小B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强D、有较高的光敏度E、有较高的对比度
人眼对不同波长的可见光具有不同的敏感程度。测量表明，正常人眼对波长为555nm的（）最为敏感。A、白光B、蓝紫光C、红光D、黄绿光
例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
晶片经过显影后进行坚膜，坚膜的主要作用有（）。A、除去光刻胶中剩余的溶剂B、增强光刻胶对晶片表面的附着力C、提高光刻胶的抗刻蚀能力D、有利于以后的去胶工序E、减少光刻胶的缺陷
用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶（）。A、ARCB、HMDSC、正胶D、负胶
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA的含义是（）。A、化学增强B、化学减弱C、厚度增加D、厚度减少
下列色光中对胶卷最敏感的光线是（）。A、红光B、蓝光C、黄光D、紫光E、绿光F、橙光
白天化妆时，为避免过浓，应该用（）光线来化妆。A、白光灯B、黄光灯C、靠近窗前的天然光线D、蓝灯光
填空题光刻中影响甩胶后光刻胶膜厚的因素有（）、（）、（）、（）。
问答题简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。
判断题有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。A对B错
单选题人的眼睛只对特定波长的光敏感的现象描述的是感觉的A感受性B特殊性C时间特性D适应性
问答题例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
判断题如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。A对B错
单选题下列色光中对胶卷最敏感的光线是（）。A红光B蓝光C黄光D紫光E绿光F橙光
判断题最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A对B错
单选题发育少于4周的龙虾只对（ ）敏感。A红光B绿光C蓝光D黄光
单选题白光通过黄色料，黄色料会吸收白光中的（）透射或反射黄光。A蓝光B红光C绿光D青光
单选题人眼对不同波长的可见光具有不同的敏感程度。测量表明，正常人眼对波长为555nm的（）最为敏感。A白光B蓝紫光C红光D黄绿光