问答题光刻的作用是什么?列举两种常用曝光方式。

问答题
光刻的作用是什么?列举两种常用曝光方式。

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光刻加工的工艺过程为()A、①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗B、①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散C、①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原

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例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。

光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是()A、电子束曝光技术B、离子束曝光技术C、X射线曝光技术

问答题光刻的曝光方式有几种?各有何特点?

单选题光刻加工的工艺过程为:()A①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗B①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散C①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原

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问答题列举用户接入Internet的常用方式是什么?

问答题行礼最常用的两种方式是什么?

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填空题光刻的图形曝光方式有:接触式曝光、接近式曝光和()曝光。

问答题列出并描述光刻中使用的两种UV曝光光源。

问答题例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。

单选题光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是()。A电子束曝光技术B离子束曝光技术CX射线曝光技术

问答题光刻的作用是什么?

多选题以下属于光刻工艺的为:()。A光刻胶涂覆B曝光C显影D腐蚀

问答题在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么?