烤瓷合金的预氧化是在除气的基础上，再加热至预定的终点温度，在非真空下继续维持A、18～20minB、15～17minC、11～13minD、5～10minE、2～4min

烤瓷合金的预氧化是在除气的基础上，再加热至预定的终点温度，在非真空下继续维持

A、18～20min

B、15～17min

C、11～13min

D、5～10min

E、2～4min

相关考题：

金瓷基底冠桥进行氧化，是在除气的基础上再加热。至预定终点温度时在非真空状态下应继续维持A、1～2分钟B、3～5分钟C、5～10分钟D、10～12分钟E、12～15分钟

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金属基底冠桥的预氧化应在除气基础上再加热至预定终点温度，在非真空状态下继续维持A．0.5～1.0minB．1～3minC．5～10minD．20～30minE．30min以上

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PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是A．非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜B．贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜C．巴非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜D．非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同E．理想的氧化膜厚度为0.2～2μm

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影响金属-烤瓷界面润湿性的因素有（）A、金属表面污染B、合金质量差C、金属-烤瓷结合面除气预氧化不正确D、铸造时合金熔融温度过高，铸件内混入气泡E、金属基底表面喷砂处理不当

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下列有关烤瓷金属内冠除气的说法，正确的是（）A、除气即是用在炉内加热的方法排除合金中残留的气体，并形成氧化膜B、贵金属需在半真空下加热10～15分钟即可C、非贵金属需在半真空下加热5分钟即可D、理想的氧层厚度是0.2～2μmE、氧化层厚度与金属-烤瓷结合强度成正变关系

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单选题烤瓷合金的预氧化是在除气的基础上，再加热至预定的终点温度，在非真空下继续维持（　　）。A18～20minB15～17minC11～13minD5～10minE2～4min

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单选题金瓷基底冠桥进行氧化，是在除气的基础上再加热。至预定终点温度时在非真空状态下应继续维持（）A1～2分钟B3～5分钟C5～10分钟D10～12分钟E12～15分钟

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单选题非贵金属烤瓷桥修复，金属基底预氧化应在除气的基础上再加热至预定终点温度，在非真空状态下继续维持的时间为（　　）。A1minB2minC3minD4minE5min

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