PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是A．非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜B．贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜C．巴非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜D．非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同E．理想的氧化膜厚度为0.2～2μm
PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是
A．非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜
B．贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜
C．巴非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜
D．非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同
E．理想的氧化膜厚度为0.2～2μm
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金瓷结合界面处理恰当与否关系到金瓷结合强度，因此严格进行正确的处理才能保证PFM冠的质量PFM基底冠的打磨处理中错误的是A、用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物B、用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物C、打磨时用细砂针多方均匀地打磨出金瓷结合．部要求的外形D、禁止使用橡皮轮磨光E、用50～100μm的氧化铝喷砂PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是A、非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜B、贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜C、非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜D、非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同E、理想的氧化膜厚度为0．2～2μm
下列贵金属烤瓷冠的特点中正确的是（ ）A.贵金属易被氧化分解B.化学性能较活泼，不稳定C.非贵金属烤瓷强度高，与瓷粉结合力较贵金属强D.内冠表面的氧化膜较非贵金属薄而致密E.非贵金属烤瓷会发生龈染色而贵金属烤瓷不会
金瓷结合界面处理恰当与否关系到金瓷结合强度，因此严格进行正确的处理才能保证PFM冠的质量PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是（）。A、非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜B、贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜C、非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜D、非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同E、理想的氧化膜厚度为0.2～2μm
下列有关烤瓷金属内冠除气的说法，正确的是（）A、除气即是用在炉内加热的方法排除合金中残留的气体，并形成氧化膜B、贵金属需在半真空下加热10～15分钟即可C、非贵金属需在半真空下加热5分钟即可D、理想的氧层厚度是0.2～2μmE、氧化层厚度与金属-烤瓷结合强度成正变关系
单选题50～100μ；m的氧化铝主要用于（）A贵金属基底冠的粗化B半贵金属基底冠的粗化C非贵金属基底冠的粗化D去除铸件表面的包埋料E去除铸件表面在铸造过程中形成的氧化膜