X射线荧光仪样品室抽真空,其目的是为了减少空气对特征X射线光谱的()。
影响X射线荧光光谱分析的主要因素有:()、()和()三大方面。
在X荧光分析中，以下样品的哪个因素不属于物理效应。（）A、样品的粒度B、不均匀性C、表面结构D、化学价态
X射线荧光分析时基体效应的基体与光电直读光谱分析用的铁基样品、镍基样品、铬基样品的铁基、镍基、铬基含意是一样的。
X射线荧光光谱分析康普顿散射线内标法是根据靶线的康普顿散射线的强度很敏感地受样品成分的影响而设计的分析方法。
在X射线荧光分析中，当样品研磨到极细时，则（）基本消失；将样品制成薄层并薄到临界厚度以下时，分析线所受的（）与样品的组成无关。A、均匀性B、粒度效应C、辐射D、吸收-增强效应
台式X射线荧光镀层测厚仪和手持式X射线荧光光谱仪相比，更适合不规则样品的镀层检测。
原子受高能辐射，其内层电子发生能级跃迁，发射出特征X射线（X射线荧光），通过测定其强度进行定量分析的方法被称为（）A、原子荧光分析法B、X射线荧光分析法C、X射线吸收分析法D、X射线发射分析法
X射线荧光光谱法分析金属样品，对分析面的要求是什么？
X射线荧光仪在以X射线管作为激发源时，原级X射线光谱中特征光谱是用于激发样品的主要光源。
X射线荧光光谱法分析金属样品，分析面的光洁程度直接影响（）
X射线荧光光谱分析中，连续光谱激发样品时，连续光谱中的散射线是构成背景的主要来源，会影响分析元素的检测限，尤其对痕量元素。
X射线荧光光谱可对分析样品中的元素进行（）A、定性分析B、定量分析C、都不是
采用X射线荧光光谱法分析粉末样品，造成分析误差的因素中，粒度效应和（）占很大比例。
在X射线荧光分析中内标法往往可以采用将样品制成溶液的形式或以熔剂熔融的方式进行。
X射线荧光光谱法分析金属样品，分析面的光洁程度不会影响分析精度。
X射线荧光光谱法中，分析微量Al的样品不能用（）磨料抛光。
在X射线荧光光谱分析中，样品中除分析元素以外的全部元素为基体，基体元素对分析元素的影响叫基体效应。
在x射线荧光分析法中，由x射线管直接产生的x射线是（）。A、一次X射线B、二次X射线C、次级射线D、X荧光
由X射线管发出的一次X射线激发样品，使样品所含元素辐射出二次X射线，即X射线（）。A、光子B、荧光C、光谱D、线束
影响X射线强度的主要因素有基体效应、不均匀效应和谱线干扰。
X射线荧光光谱分析是相对分析方法，需要通过测试（）来确定待测样品的含量。
X射线荧光光谱法分析金属样品，取样过程中冷却条件的差异不会造成分析误差。
进行X射线荧光光谱分析的样品，可以是固态，也可以是水溶液。
问答题分析下列荧光辐射产生的可能性，为什么？（1）用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射；（2）用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射；（3）用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。
多选题对交流隔离开关及接地开关触头镀银层厚度检测时，样品放置应满足（）A从正面看，X射线荧光接收器在所放样品位置的左边B从正面看，X射线荧光接收器在所放样品位置的右边C样品放置，应保证X射线荧光不受干扰地到达探测器D样品放置位置关系不大，只要能满足聚焦清晰即可