问答题请以PMOS晶体管为例解释什么是衬偏效应,并解释其对PMOS晶体管阈值电压和漏源电流的影响。

问答题
请以PMOS晶体管为例解释什么是衬偏效应,并解释其对PMOS晶体管阈值电压和漏源电流的影响。

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相关考题:

场效应晶体管是用()控制漏极电流的。A、栅源电流B、栅源电压C、漏源电流D、漏源电压

有一个晶体管继电器电路,其晶体管集电极与继电器的吸引线圈相串联,继电器的动作电流为6mA。若晶体管的电流放大系数β=50,要使继电器开始动作,晶体管的基极电流至少应为()。

描述场效应晶体管的输入特性的主要参数是()。A、漏极电流,压漏-源电压,以栅极电压为参变量B、漏极电流,栅极电压,以漏-源电压为参变量C、基极电压,集电极电流,以集电极电压为参变量D、漏极电流,栅极电流,以漏-源电压为参变量

晶体管电流放大作用的实质是什么?为什么晶体管具有电流放大作用?

场效应晶体管的栅源电压变化可以控制漏电流变化。()

场效应晶体管具有很小的输入电流和很高的输入()。

双极型晶体管和场效应晶体管的控制信号(即驱动信号)为()。A、均为电压控制B、均为电流控制C、双极型晶体管为电压控制,场效应管为电流控制D、双极型晶体管为电流控制,场效应管为电压控制

双极型晶体管和场效应晶体管的控制信号为()。A、电压B、电流C、双极型为电压、场效应为电流D、双极型为电流、场效应为电压

晶体管是电流控制型半导体器件,而场效应晶体管则是电压型控制半导体器件。

MOS集成电路按其形式有NMOS和PMOS两种。

场效应晶体管是用栅极电压控制漏极电流的。

采用了()门电路后,其比PMOS和NMOS门电路的功耗更低,速度更快。

下列场效应管中,无原始导电沟道的为()。A、N沟道JFETB、增强~AIPMOS管C、耗尽型NMOS管D、耗尽型PMOS管

双极型晶体管和场效应晶体管的驱动信号()。A、均为电压控制B、均为电流控制C、双极型晶体管为电压控制,场效应晶体管为电流控制D、双极型晶体管为电流控制,场效应晶体管为电压控制

场效应晶体管的主要参数有()A、开启电压B、低频跨导C、漏源击穿电压D、最大耗散功率E、最大漏极电流

填空题MOS场效应晶体管的开启电压指的是:()。所以,NMOS管的开启电压为(),PMOS管的开启电压为()。

单选题绝缘栅场效应晶体管根据结构不同分为()AP沟道增强型效应晶体管和N沟道结型场效应晶体管B增强型绝缘栅场效应晶体管和耗尽型绝缘栅场效应晶体管CN沟道结型场效应晶体管和P沟道增强型场效应晶体管DN沟道结型场效应晶体管和P沟道绝缘栅型场效应晶体管

问答题MOS晶体管的短沟道效应是指什么,其对晶体管有什么影响?

问答题NMOS和PMOS的源漏如何形成的?

问答题为什么NMOS工艺优于PMOS工艺?

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判断题对于处于饱和区的MOS晶体管,漏源电流随其宽长比的增大而增大。A对B错

问答题什么是MOS晶体管的闩锁效应,其对晶体管有什么影响?

单选题结型场效应晶体管根据结构不同分为()AP沟道结型场效应晶体管和N沟道结型场效应晶体管BP沟道结型场效应晶体管和N沟道增强型场效应晶体管CN沟道结型场效应晶体管和P沟道增强型场效应晶体管DN沟道结型场效应晶体管和P沟道型绝缘栅场效应晶体管

判断题PMOS是在N阱上形成P沟道的MOSFET晶体管。A对B错

填空题PMOS是在()上形成P型沟道的MOSFET晶体管。

问答题对NMOS晶体管,注入何种杂质使阈值电压增加或降低?