常压、加压和减压操作各有何优缺点：各适用于什么场合？
简述常压固定层间歇式无烟煤（或焦炭）气化技术的优缺点。
简述汽缸的作用、双层缸结构的优缺点、双层缸应用；高中压合缸的优缺点、应用。
问答题简述在APCVD SiO2时掺杂PH3，形成磷硅玻璃（PSG）的优缺点。
问答题常用的CVD哪几种？说明各自的优缺点以及应用领域。
问答题解释质量输运限制CVD工艺和反应速度限制CVD工艺的区别，哪种工艺依赖于温度，LPCVD和APCVD各属于哪种类型？
问答题简述常压固定层间歇式无烟煤（或焦炭）气化技术的优缺点。
判断题CVD系统包括热壁式CVD系统和冷壁式CVD系统，在冷壁式CVD系统中侧壁温度与沉底温度相等。A对B错
判断题在半导体产业界第一种类型的CVD是APCVD。A对B错
问答题简述常压固定层间歇式无烟煤（或焦炭）富氧连续气化技术的优缺点。