判断题二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件是杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数。A对B错
判断题
二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件是杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数。
A
对
B
错
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扩散加权成像技术的叙述错误的是A、扩散成像,又称弥散成像B、是利用对扩散运动敏感的脉冲序列检测组织的水分子扩散运动状态,并用MR图像的方式显示出来C、在均匀介质中,任何方向的D(扩散系数)值都相等D、物质的扩散特性通常以扩散系数D来描述E、在扩散加权图像上,扩散系数越高,MR信号越高
膜的透过特性取决于细孔流及水、溶质在容胀膜表面中的扩散系数。通过细孔的溶液量与整个膜的透水量之比愈小,同时水在膜中的扩散系数与溶质在膜中的扩散系数之比愈大,则膜的()。A、溶解性好B、扩散性好C、渗透性好D、选择性好
单选题膜的透过特性取决于细孔流及水、溶质在容胀膜表面中的扩散系数。通过细孔的溶液量与整个膜的透水量之比愈小,同时水在膜中的扩散系数与溶质在膜中的扩散系数之比愈大,则膜的()。A溶解性好B扩散性好C渗透性好D选择性好
单选题二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些() ①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数 ②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数 ③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度 ④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度A②④B①③C①④D②③
问答题杂质在硅中的扩散方式有哪些?