表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。A、分凝度B、固溶度C、分凝系数D、扩散系数

表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。

  • A、分凝度
  • B、固溶度
  • C、分凝系数
  • D、扩散系数

相关考题：

在进行凝反应进判定反应结果常以肉眼观察凝集程度，凝集程度分六级++++、+++、++、+、±、-，下列哪种凝集反应程度判定血清滴度A.++++B.+++C.++D.+E.±
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细度习惯上常用()粒级的百分含量来表示。
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以下与涡流扩散系数无关的是( )。 A.流体性质B.湍动程度C.流道中的位置D.边壁粗糙度
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常用的硅酸盐水泥物理性质,初凝时间不得迟于45分钟,终凝时间不得早于12小时。() 此题为判断题(对，错)。
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表示正态分布资料个体变异程度常用的指标是 A、全距B、标准误C、四分位数间距D、标准差E、变异系数
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腹部肿块推之不移,痛有定处者病在A.血分B.水分C.痰饮D.寒凝 腹部肿块推之不移，痛有定处者病在A.血分B.水分C.痰饮D.寒凝E.气分
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腹部肿块推之可移,痛无定处者病在A.血分B.水分C.痰饮D.寒凝 腹部肿块推之可移，痛无定处者病在A.血分B.水分C.痰饮D.寒凝E.气分
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（）是指喷灌面积上水量分布的均匀程度，常用均匀系数和水量分布图来表示。
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喷灌均匀度是指喷灌面积上水量分布的均匀程度，常用均匀系数和水量分布图来表示。
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二氧化硅生长过程中，当分凝系数小于1时，会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度（）。A、降低B、增加C、不变D、先降低后增加
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常用的硅酸盐水泥物理性质，初凝时间不得迟于45分钟，终凝时间不得早于12小时。
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影响单晶内杂质数量及分布的主要因素是（）①原材料中杂质的种类和含量；②杂质的分凝效应；③杂质的蒸发效应；④生长过程中坩埚或系统内杂质的沾污；⑤加入杂质量；A、①②④B、②④⑤C、①②④⑤D、①②③④⑤
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在相关分析中，相关系数r表示（）A、相关的性质和的密切程度B、只表示相关的性质，不表示密切程度C、只表示密切程度，不表示相关的性质D、即不能表示相关的性质，又不能表示密切程度
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单选题现行水泥标准对普通硅酸盐水泥的初凝和终凝时间要求为（）A初凝时间不得早于45分钟，终凝时间不得迟于10小时B初凝时间不得早于40分钟，终凝时间不得迟于20小时C初凝时间不得早于60分钟，终凝时间不得迟于6.5小时D初凝时间不得早于50分钟，终凝时间不得迟于8小时
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问答题什么是杂质分凝效应和分凝系数？
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单选题影响单晶内杂质数量及分布的主要因素是（）①原材料中杂质的种类和含量；②杂质的分凝效应；③杂质的蒸发效应；④生长过程中坩埚或系统内杂质的沾污；⑤加入杂质量；A①②④B②④⑤C①②④⑤D①②③④⑤
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判断题二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件是杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数。A对B错
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填空题SiO2-Si界面的杂质分凝：（）过程中，（）在两种材料中重新分布，（）吸引受主杂质（B）、排斥施主杂质（P、As）。
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单选题二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些（）      ①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数  ②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数  ③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度  ④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度A②④B①③C①④D②③
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名词解释题分凝系数
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判断题常用的硅酸盐水泥物理性质，初凝时间不得迟于45分钟，终凝时间不得早于12小时。A对B错
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单选题表示正态分布资料个体变异程度常用的指标是（）。A全距B标准误C四分位数间距D标准差E变异系数
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名词解释题杂质固溶度
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单选题晶体的表面扩散系数Ds、界面扩散系数Dg和体积扩散系数Db之间存在（）的关系。ADsDgDbBDbC.DgDsDbCDg
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判断题喷灌均匀度是指喷灌面积上水量分布的均匀程度，常用均匀系数和水量分布图来表示。A对B错
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填空题氧化时（）称为分凝效应。B在氧化硅中的含量高于Si衬底中的含量，分凝系数（）1；P、As在氧化硅中的含量低于Si衬底中含量，分凝系数（）1。
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填空题细度习惯上常用（）粒级的百分含量来表示。
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