9、常见的干法刻蚀方法主要包括: 。A.等离子体刻蚀B.离子铣C.反应离子刻蚀D.氧化刻蚀
9、常见的干法刻蚀方法主要包括: 。
A.等离子体刻蚀
B.离子铣
C.反应离子刻蚀
D.氧化刻蚀
参考答案和解析
等离子体刻蚀;离子铣;反应离子刻蚀
相关考题:
下列有关ARC工艺的说法正确的是()。A、ARC可以是硅的氮化物B、可用干法刻蚀除去C、ARC膜可以通过PVD或者CVD的方法形成D、ARC在刻蚀中也可做为掩蔽层E、ARC膜也可以通过CVD的方法形成
问答题什么是干法刻蚀?什么是湿法刻蚀?比较二者的优缺点。