判断题用保护环(Guarding Ring)可以在一定程度上防止Latch up效应的出现,比如说,在P沟道的MOS管上用P+的环。A对B错

判断题
用保护环(Guarding Ring)可以在一定程度上防止Latch up效应的出现,比如说,在P沟道的MOS管上用P+的环。
A

B


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相关考题:

在场效应管放大电路中,测得各极电位分别为UD=6V,US=3V,UG=1V,则该场效应管为()MOS管。 A、N沟道耗尽型B、P沟道耗尽型C、P沟道增强型D、N沟道增强型

MOS器件的基本结构有N沟道和P沟道两种,也就有NMOS和PMOS逻辑门电路两种。() 此题为判断题(对,错)。

CMOS反相器是由一个增强型P沟道MOS场效应管和一个增强型N沟道MOS场效应管组成的。() 此题为判断题(对,错)。

结型场效应管的类型有()。 A.N沟道结型场效应管B.P沟道结型场效应管C.N沟道增强型MOS管D.P沟道增强型MOS管E.N沟道耗尽型MOS管F.P沟道耗尽型MOS管

结型场效应管可分为()。A、MOS管和MNS管B、N沟道和P沟道C、增强型和耗尽型D、NPN型和PNP型

单极型集成电路不包含().A、普通晶体管(NPN管或PNP管)B、P沟道MOS管C、N沟道MOS管D、互补型MOS(即CMOS)

结型场效应管的类型有()。A、N沟道结型场效应管B、P沟道结型场效应管C、N沟道增强型MOS管D、P沟道增强型MOS管E、N沟道耗尽型MOS管F、P沟道耗尽型MOS管

场效应管的类型有()。A、结型场效应管B、绝缘栅型场效应管C、N沟道增强型MOS管D、P沟道增强型MOS管E、N沟道耗尽型MOS管F、P沟道耗尽型MOS管

MOS种类分为?()A、P沟道场管B、Q沟道场管C、D沟道场管D、N沟道场管

UGS=0V时,不能够工作在恒流区的场效应管有()。A、N沟道结型管B、增强型MOS管C、耗尽型MOS管D、P沟道结型管

MOS场效应管按栅极开路时有无导电沟道分为增强型和()两种类型。

非正弦周期电流电路的功率P用公式表示即()。A、P=P0+P1+P2+…+P+…B、p=(P0+P1+P2+…+P+…)/2C、P=D、Po=|P0|+|P1|+|P2|+…+|P|+…

衬底为N型硅片的MOS管就是N沟道MOS场效应管。

某场效应管的IDSS为6mA,而IDQ自源极流出,大小为8mA,则该管是()A、P沟道耗尽型MOS管B、N沟道耗尽型MOS管C、P沟道增强型MOS管D、N沟道增强型MOS管

场效应管从结构上可分为两大类:()、MOS;根据导电沟道的不同又可分为N沟道、P沟道两类;对于MOSFET,根据栅源电压为零时是否存在导电沟道,又可分为两种:耗尽型、()。

MOS场效应管按导电沟道划分为N和()两大类。

MOS管是用()、()和()材料制成的。按沟道类型分有()和()两类,其每一类又可分()为和()两种。

P沟道耗尽型MOS管的夹断电压VP为()。A、正值B、负值C、零

更具结构不同,场效应管分为()A、N沟道和P沟道场效应管B、NPN和PNP型场效应C、MOS管和MNS管D、结构和绝缘栅场效应管

CMOS反相器基本电路包括()A、P沟道增强型MOS管和N沟道增强型MOS管B、P沟道耗尽型MOS管和N沟道耗尽型MOS管C、P沟道增强型MOS管和N沟道耗尽型MOS管D、P沟道耗尽型MOS管和N沟道增强型MOS型

单选题非正弦周期电流电路的功率P用公式表示即()。AP=P0+P1+P2+…+P+…Bp=(P0+P1+P2+…+P+…)/2CP=DPo=|P0|+|P1|+|P2|+…+|P|+…

问答题消除“Latch-up”效应的方法?

单选题下列关于Latch up效应说法不正确的是()A衬底耦合噪声是造成Latch up问题的原因之一。BLatch up效应在电路上可以解释为CMOS集成电路中寄生三极管构成的正反馈电路。CLatch up效应与两个寄生三极管的放大系数有关。DLatch up效应与井和衬底的参杂浓度无关。

问答题MOS晶体管的短沟道效应是指什么,其对晶体管有什么影响?

问答题为什么MOS晶体管会存在饱和区和非饱和区之分(不考虑沟道调制效应)?

填空题()称为沟道效应,可以用()、()和()来避免。其中,()是最常用的方法。

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