10、当MOSFET工作在饱和区时,它的导电沟道是连续的(沟道没有夹断区)。

10、当MOSFET工作在饱和区时,它的导电沟道是连续的(沟道没有夹断区)。


参考答案和解析
D

相关考题:

按导电沟道不同,电力MOSFET可分为哪两项?( ) A、耗尽型B、增强型C、P沟道D、N沟道

增强型绝缘栅场效应管,当栅极g与源极s之间电压为零时()。 A、不能形成导电沟道B、漏极电压为零C、能够形成导电沟道D、漏极电流不为零

电力MOSFET的种类和结构繁多,按导电沟道可分为______和______。当栅极电压为零源漏之间就存在导电沟道的称为______;对于N(P)沟道器件,栅极电压大于(小于)零时才存在导电沟道的称为______。在电力MOSFET中,主要是______。

平均排除法适用于()A.丘陵地区的排水沟道B.山区的排水沟道C.平原地区的得排水沟道D.高原区的排水沟道

平均排除法适用于()A、丘陵地区的排水沟道B、山区的排水沟道C、平原地区的得排水沟道D、高原区的排水沟道

一个N沟道结型场效应管工作时,测得UDS=6V,ID=3mA,UGS=-1V,问此管工作在什么区域()A、非饱合区B、饱合区C、击穿区D、高阻区

单极型晶体管又称为()管,其导电沟道有()沟道和()沟道。

UGS=0V时,不能够工作在恒流区的场效应管有()。A、N沟道结型管B、增强型MOS管C、耗尽型MOS管D、P沟道结型管

N沟道场效应管工作在变阻区时,其等效电阻与GSS有关,VGS越大,则等效电阻()

结型场效应管的基本工作原理是()A、改变导电沟道中的载流子浓度B、改变导电沟道中的横截面积C、改变导电沟道中的有效长度D、改变导电沟道中的体积

当uGS=0时,漏源间存在导电沟道的称为()型场效应管;漏源间不存在导电沟道的称为()型场效应管。

使结型场效应管ID=0的临界栅源电压称为(夹断)电压,N沟道JFET的UGS(off)()0,P沟道JFET的UGS(off)()0。

当栅源电压等于零时,增强型FET()导电沟道,结型FET的沟道电阻()。

场效应管的非饱和区又称变阻区,它是沟道未被()的工作区。

场效应管从结构上可分为两大类:()、MOS;根据导电沟道的不同又可分为N沟道、P沟道两类;对于MOSFET,根据栅源电压为零时是否存在导电沟道,又可分为两种:耗尽型、()。

EMOS管存在导电沟道时,栅源之间的电压必定大于零。

填空题单极型晶体管又称为()管。其导电沟道分有()沟道和P沟道。

填空题在长沟道MOSFET中,漏极电流的饱和是由于(),而在短沟道MOSFET中,漏极电流的饱和则是由于()。

问答题为什么MOS晶体管会存在饱和区和非饱和区之分(不考虑沟道调制效应)?

填空题P沟道MOSFET的衬底是()型半导体,源区和漏区是()型半导体,沟道中的载流子是()。

多选题按导电沟道不同,电力MOSFET可分为哪两项?()A耗尽型B增强型CP沟道DN沟道

填空题由于源、漏区的掺杂浓度()于沟道区的掺杂浓度,所以MOSFET源、漏PN结的耗尽区主要向()区扩展,使MOSFET的源、漏穿通问题比双极型晶体管的基区穿通问题()。

判断题PMOS是在N阱上形成P沟道的MOSFET晶体管。A对B错

填空题PMOS是在()上形成P型沟道的MOSFET晶体管。

问答题MESFET的有源层是如何形成的?它的导电沟道是如何控制的?

单选题当NMOS器件工作在饱和区时,沟道出于()状态。A积累B耗尽C导通D夹断

单选题在短沟道MOS器件中,当器件工作在饱和区,源漏电压升高,会使源漏电流()A增大B减小C不变D先减小后增大

填空题为了避免短沟道效应,可采用按比例缩小法则,当MOSFET的沟道长度缩短一半时,其沟道宽度应(),栅氧化层厚度应(),源、漏区结深应(),衬底掺杂浓度应()。