单选题下列配合物命名不正确的是（）。A[Co（ONO）（NH3）5]SO4硫酸一亚硝酸•五氨根合钴（III）B[Co（NH3）5H2O]Cl3三氯化一水•五氨合钴（Ⅲ）C[PtCl（NO2）（NH3）4]CO3碳酸一硝基•一氯•四氨合铂（IV）D[CrBr2（H2O）4]Br∙2H2O二水合溴化二溴•四水合铬（III）
单选题
下列配合物命名不正确的是（）。
A
[Co（ONO）（NH3）5]SO4硫酸一亚硝酸•五氨根合钴（III）
B
[Co（NH3）5H2O]Cl3三氯化一水•五氨合钴（Ⅲ）
C
[PtCl（NO2）（NH3）4]CO3碳酸一硝基•一氯•四氨合铂（IV）
D
[CrBr2（H2O）4]Br∙2H2O二水合溴化二溴•四水合铬（III）
参考解析
解析：
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在EDTA配位滴定中，下列有关酸效应的叙述正确的是A.酸效应系数越大，配合物越稳定。B.酸效应系数越小，配合物越稳定。C.酸效应系数越小，配合物越不稳定。D.酸效应系数的大小对配合物的稳定性无影响。
下列络合滴定法对配位反应必备条件叙述不正确的是( )。A.配合反应必须完全，生成配位物必须稳定B.配合反应必须迅速C.配合反应必须以络合比l:1进行，便于计算D.配合反应终点必需有可行的方法来指示
下列关于配合物高低自旋的说法，正确的是（）A、四面体构型多为低自旋B、配体性质对配合物高低自旋无影响C、中心离子氧化态越高，配合物越易呈高自旋状态D、中心离子半径越大，配合物越易呈低自旋状态
关于活性配合物和惰性配合物的说法正确的是（）A、根据热力学稳定性，配合物可分为活性配合物与惰性配合物B、根据动力学稳定性，配合物可分为活性配合物与惰性配合物C、活性配合物是不稳定配合物D、惰性配合物是不稳定配合物
下列关于配合物的叙述中错误的是（）A、高自旋的八面体配合物的CFSE不一定小于低自旋的CFSEB、同种元素的内轨型配合物比外轨型配合物稳定C、中心离子的未成对电子愈多，配合物的磁矩愈大D、价键理论的内轨型配合物对应着晶体场理论的高自旋配合物
配位滴定中，在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时，下列注意事项中说法不正确的是（）。A、掩蔽剂不与待测离子配合，或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性B、干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定C、在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在，应具有较强的掩蔽能力D、掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的，不影响终点的判断
关于外轨型与内轨型配合物的区别，下列说法不正确的是（）A、中心原子杂化方式在外轨型配合物是ns，np，nd轨道杂化，内轨 型配合物是（n-1）d，ns，np轨道杂化B、形成外轨配合物时中心原子d电子排布不变，而形成内轨配合物时中心原子d电子一般发生重排C、通常外轨型配合物比内轨型配合物磁矩小D、相同中心利息形成相同配合数的陪离子时，一般内轨型稳定
下列描述配合物的配位数与空间构型关系的说法不正确的是：（）A、中心离子配位数为2的配合物均为直线形；B、中心离子配位数为3的配合物均为三角形；C、中心离子配位数为4的配合物均为四面体型；D、中心离子配位数为6的配合物均为八面体型。
下列关于命名空间描述不正确的是（）｡A、命名空间就是.NET Framework中相关类和命名空间的集合B、System.Windows.Forms命名空间定义了包含工具箱中的控件及窗体自身的类C、命名控件中的所有类都是从同一个基类中继承的D、上述都对
下列表述中错误的是（）A、[Fe（H2O）6]3+，属外轨型配合物B、[Ni（CN）4]2－，属内轨型配合物C、[Ni（NH3）4]2+，属内轨型配合物D、[Fe（CN）6]4－，属内轨型配合物
单选题有关细菌的命名，下列叙述不正确的为（）A拉丁支双命名法中，属名在前，种名在后B细菌的中文译名是种名在前，属名在后C细菌的科学命名具有明确分类等级特点，由科名和属名构成D细菌的科学命名可用拉丁文字形式表示E细菌的命名由《国际细菌命名法典》所决定