什么是离子注入中常发生的沟道效应(Channeling)和临界角?怎样避免沟道效应?
什么是离子注入中常发生的沟道效应(Channeling)和临界角?怎样避免沟道效应?
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单选题离子注入过程是一个非平衡过程,高能离子进入靶后不断与原子核及其核外电子碰撞,逐步损失能量,最后停下来。停下来的位置是随机的,大部分不在晶格上,因而没有()。A 电活性B 晶格损伤C 横向效应D 沟道效应
填空题阈电压V的短沟道效应是指,当沟道长度缩短时,V变()。