0°探头近场区与探头外部尺寸成正比关系。

0°探头近场区与探头外部尺寸成正比关系。


相关考题:

通过何种方法可以得到较大的近场区A、使用高频探头B、在探头与体表之间放置水囊C、减少探头直径D、增大阻尼E、使扫描速度增加

关于声场的特性,下述正确的是A、近场区长度与探头半径和频率成正比B、近场区横向分辨率低于远场区C、近场区声束呈喇叭形D、近场区横断面上能量分布基本均匀E、远场区声束直径小于近场区

获得较大近场区的方法是A、使用高频探头B、使用低频探头C、增大阻尼D、改变阻尼E、改变探头直径

在多数软组织中,衰减系数的变化与探头频率近似为A、与探头频率成反比B、频率的平方C、与探头频率成对数关系D、与探头频率成正比E、频率的立方

关于声场的特性,下述正确的是A.近场区长度与探头半径和频率成正比B.近场区横向分辨率低于远场区C.近场区声束呈喇叭形D.近场区横断面上能量分布基本均匀E.远场区声束直径小于近场区

在多数软组织中,衰减系数的变化与探头频率近似为A.与探头频率成反比B.频率的平方C.与探头频率成对数关系D.与探头频率成正比E.频率的立方

探头的晶片尺寸增加对探头的()有不利影响。A、 声束的指向性B、 近场区长度C、 远距离缺陷检出能力D、 以上都是

同频率的探头其扩散角与探头晶片尺寸成反比,近场区长度与晶片面积成正比。

横波探头晶片尺寸一定,K值增大时,近场区长度减小。

斜探头横波声场近场区分布在两种介质中,在晶片尺寸和频率相同时近场区长度随横波探头K值的增大而()。 A、 增大B、 不变C、 减小D、 都有可能

当探头距缺陷水平距离不变时,缺陷比探头尺寸小产生的信号幅度会发生起伏变化,这个区域称为()。A、远场区B、近场区C、过渡区D、阴影区

直探头的近场区成为不可探测区,需用双芯片直探头进行探测。

简述斜探头的K值与钢中近场区长度之间的关系。

探头晶片尺寸(),近场区长度增加,对近表面的缺陷探测不利。

探头晶片尺寸(),近场区长度增加,对近表面探伤不利。A、增加B、减小C、不变

说明指向角和近场区长度的关系,在实际探伤中如何选择探头频率和晶片的尺寸?

探头晶片尺寸增加,近场区长度增加,对探伤不利。

单选题斜探头横波声场近场区分布在两种介质中,在晶片尺寸和频率相同时近场区长度随横波探头K值的增大而()。A 增大B 不变C 减小D 都有可能

问答题简述斜探头的K值与钢中近场区长度之间的关系。

单选题横波探头晶片尺寸一定时,K值与近场区长度的关系为()AK值增大时,近场区长度不变BK值增大时,近场区长度增大CK值增大时,近场区长度减小DK值与近场区长度无关

判断题横波探头晶片尺寸一定,K值增大时,近场区长度减小。A对B错

单选题探头的晶片尺寸增加对探头的()有不利影响。A 声束的指向性B 近场区长度C 远距离缺陷检出能力D 以上都是

问答题说明指向角和近场区长度的关系,在实际探伤中如何选择探头频率和晶片的尺寸?

单选题探头晶片尺寸(),近场区长度增加,对近表面探伤不利。A增加B减小C不变

判断题同频率的探头其扩散角与探头晶片尺寸成反比,近场区长度与晶片面积成正比。A对B错

判断题0°探头近场区与探头外部尺寸成正比关系。A对B错

单选题当探头横向移动时,比探头尺寸小的缺陷所产生的信号幅度会发生起伏变化,这个区域称为()A远场区B近场区C过渡区D阴影区