光动力疗法治疗脉络膜新生血管利用的机制是A、光凝作用B、光化学反应C、热疗D、放射线作用E、抗VEGF作用
膜剂的制备可采用_________制膜法、__________制膜法和复合制膜法。
能够用紫外光擦除ROM中的程序的只读存储器称为()。A.掩膜ROMB.PROMC.EPROMD.EEPROM
以苄泽为乳化剂制备乳剂，其乳化膜是（ ）。A．单分子乳化膜B．多分子乳化膜C．固体微粒乳化膜D．液态膜E．复合凝聚膜
将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触，再用紫外光照射来进行曝光的方法，称为（）曝光。A、接触B、接近式C、投影
金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜，带胶蒸发或溅射所需的金属，然后在去除光致抗蚀剂膜的同时，把胶膜上的金属一起去除干净。（）
在进行空间分析时，经常设置Mask（掩膜），设置掩膜的作用是什么？
膜剂的制备可采用（）制膜法、热塑制膜法和复合制膜法。
膜剂制备可采用（）制膜法、（）制膜法和（）制膜法。
能用紫外线光擦除ROM中的程序的只读存储器为（）A、掩膜ROMB、PROMC、EPROMD、EEPROM
89C51采用的内部程序存储器是（）。A、EPROMB、ROMLessC、FlashD、掩膜ROM
能够用紫外光擦除ROM中程序的只读存储器称为（）。A、掩膜ROMB、PROMC、EPROMD、EEPROM
单选题光动力疗法治疗脉络膜新生血管利用的机制是（）A光凝作用B光化学反应C热疗D放射线作用E抗VEGF作用
填空题光掩膜法（SBC）是（）（国家名）的Cubital公司研发成功的，可以不需要数控技术。
判断题光掩膜法成形原理上与光化学加工制备掩膜时原理类似，只是后者制备的掩膜较薄，而非立体零件。A对B错
单选题某个PCB中，安全间距过小，加工中哪一工艺步骤最可能失败（）。A阻焊掩膜B光绘C蚀刻D钻孔
问答题使用什么材料制作投影掩膜板，投影掩膜板上形成图形的不透明材料是什么？
判断题制备光刻掩膜版，希望黑白区域间的过渡区越大越好。A对B错
判断题光掩膜法中一次固化是一个截面，而光固化成形是逐点成面，因而光掩膜法成形效率比光固化成形高得多。A对B错
判断题光掩膜法中光敏树脂的浪费比光固化成形更低。A对B错
填空题化学加工采用（）制备掩膜，不仅将涂覆和刻划两道工序合二为一，而且可以做到更加细密。