将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触,再用紫外光照射来进行曝光的方法,称为()曝光。A、接触B、接近式C、投影
将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触,再用紫外光照射来进行曝光的方法,称为()曝光。
- A、接触
- B、接近式
- C、投影
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下列有关曝光系统的说法正确的是()。A、投影式同接触式相比,掩模版的利用率比较高B、接触式的分辨率优于接近式C、接近式的分辨率受到衍射的影响D、投影式曝光系统中不会产生衍射现象E、投影式曝光是目前采用的主要曝光系统
利用叶片光亮剂清洁叶片时,正确的操作方法为何?()A、直接将光亮剂喷在叶片表面,再用干布抹净B、直接将光亮剂喷在叶片表面,再用湿布抹净C、将光亮剂喷在干布表面,再擦拭叶片表面D、将光亮剂喷在湿布表面,再擦拭叶片表面
换热器按热量的传递方式分为()。A、表面式换热器、直接接触式换热器B、表面式换热器、蓄热式换热器、直接接触式换热器C、直接接触式换热器、间接接触式换热器D、间壁式换热器、直接接触式换热器、间接接触式换热器
判断题在紫外光曝光、X射线曝光、电子束曝光技术中可实现直写式曝光不需要掩模版的是X射线曝光技术。A对B错