单选题杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是()A变大,变小B变小,变大C变小,变小D变大,变大

单选题
杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是()
A

变大,变小

B

变小,变大

C

变小,变小

D

变大,变大


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在杂质半导体中多数载流子的浓度主要取决于杂质浓度,而少数载流子的浓度则与()有很大关系。A、温度B、掺杂工艺C、杂质浓度D、晶体缺陷

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杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是()A、变大,变小B、变小,变大C、变小,变小D、变大,变大

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Metthiessen`s定律中,未计算()对电子的散射作用。A、杂质B、声子C、电子D、缺陷

下列属于光纤散射损耗的是()。A、波导结构散射B、材料杂质吸收C、材料固有散射D、材料固有吸收

在光纤制造过程中,因环境不洁净,使光纤中含有气泡、未溶解的粒子、杂质、或是纤芯和包层的界面粗糙,由此而引起的的散射为()。A、背向散射B、材料散射C、波导散射D、结构散射

杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于()。A、温度B、掺杂工艺C、掺杂浓度D、晶格缺陷

本征半导体中载流子的数目比杂质半导体中载流子的数目().

在杂质半导体中,少数载流子的浓度与()有很大关系。A、温度B、掺杂工艺C、杂质浓度D、晶体管缺陷

杂质半导体中的多数载流子和少数载流子是如何产生的?杂质半导体中少数载流子的浓度与本征半导体中载流子的浓度相比,哪个大?为什么?

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在杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于()A、温度B、掺杂工艺C、杂质浓度D、晶体管缺陷

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