单选题制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为()。A0.2~2μmB5~10μmC15~20μmD25~30μmE30μm以上

单选题
制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为()。
A

0.2~2μm

B

5~10μm

C

15~20μm

D

25~30μm

E

30μm以上


参考解析

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某技术员在进行金瓷修复体基底冠表面粗化及预氧化处理后,不慎用手触摸金属表面,使表面污染,最易导致金瓷修复体A、瓷结合不良B、不透明瓷层出现裂纹C、出现瓷气泡D、金属氧化膜过厚E、PFM冠变色

PFM冠金属基底上瓷前用橡皮轮打磨可引起A.PFM冠金属基底变形,冠边缘不密合B.PFM冠变色C.PFM冠瓷裂D.PFM冠金属基底不能产生均一厚度的氧化膜E.PFM冠透明度下降

牙体缺损严重,没有用牙体充填恢复缺损而是以瓷层加厚的方法恢复患牙外形可导致A.PFM冠金属基底变形,冠边缘不密合B.PFM冠变色C.PFM冠瓷裂D.PFM冠金属基底不能产生均一厚度的氧化膜E.PFM冠透明度下降

PFM全冠金属基底部分的厚度为A.0.1~0.3mmB.0.3~0.5mmC.0.5~0.8mmD.0.8~1.0mmE.1.0~1.2mm

技师在制作PFM全冠时,为避免出现应力集中而破坏金-瓷结合,其金属基底表面形态应为A.金属基底不能过厚B.金属基底各轴面不能呈流线形C.金属基底表面无锐边、锐角D.金属基底表面不能为凹形E.金属基底表面不能为凸形

金瓷结合界面处理恰当与否关系到金瓷结合强度,因此严格进行正确的处理才能保证PFM冠的质量PFM基底冠的打磨处理中错误的是A、用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物B、用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物C、打磨时用细砂针多方均匀地打磨出金瓷结合.部要求的外形D、禁止使用橡皮轮磨光E、用50~100μm的氧化铝喷砂PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是A、非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜B、贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜C、非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜D、非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同E、理想的氧化膜厚度为0.2~2μm

制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为A.0.2~2μmB.5~10μmC.15~20μmD.25~30μmE.30μm以上

患者,上颌中切牙近中切角缺损,咬合紧,采用PFM全冠修复时,其非贵金属基底冠厚度最低极限值为A.0.1mmB.0.2mmC.0.3mmD.0.4mmE.0.5mm

制作烤瓷熔附金属全冠底冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为A.0.2~2μmB.5~10μmC.15~20μmD.25~30μmE.30μm

PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是A.非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜B.贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜C.巴非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜D.非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同E.理想的氧化膜厚度为0.2~2μm

制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为()。A、0.2~2μmB、5~10μmC、15~20μmD、25~30μmE、30μm以上

金瓷结合界面处理恰当与否关系到金瓷结合强度,因此严格进行正确的处理才能保证PFM冠的质量PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是()。A、非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜B、贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜C、非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜D、非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同E、理想的氧化膜厚度为0.2~2μm

下列关于PFM金属基底冠的设计,说法错误的是()A、以全冠形式覆盖患牙表面,能提供足够固位B、金属基底部分应大于0.5mm的厚度以增加其强度C、金属基底表面形态就无锐角锐边,各轴面呈流线形D、若牙体缺损严重,应保证基底冠厚度均匀一致,而以瓷层加厚来恢复患牙外形E、为保证颈缘有足够强度而不致在烧结时变形,可在冠的舌邻面制备颈环

金属基底冠除气目的,下列说法正确的是()A、去除铸造过程中形成的氧化膜B、去除金属基底金属-烤瓷结合面的氧化物C、排除合金中残留的气体D、避免瓷熔附时出现气泡E、在基底表面形成氧化膜

单选题制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为()。A0.2~2μmB5~10μmC15~20μmD25~30μmE30μm以上

单选题PFM全冠金属基底的厚度一般为(  )。A0.1~0.2mmB0.2~0.3mmC0.3~0.5mmD0.5~0.8mmE>0.8mm