单选题一患者上颌局部义齿修复，义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是下列哪项？（ ）A取下腭杆B腭杆组织面做缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
单选题
一患者上颌局部义齿修复，义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是下列哪项？（ ）
A
取下腭杆
B
腭杆组织面做缓冲
C
腭杆组织面加自凝树脂重衬
D
不做任何处理
E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
参考解析
解析：
可摘局部义齿的大连接体应该与承托区黏膜清接触，离开腭黏膜2mm，会导致在行使功能时出现义齿的食物嵌塞及义齿移位，为了修理后的腭杆与组织面密合，应该先去除腭杆，把义齿戴入患者口中后重新取印模，在模型上重新加腭杆。
可摘局部义齿的大连接体应该与承托区黏膜清接触，离开腭黏膜2mm，会导致在行使功能时出现义齿的食物嵌塞及义齿移位，为了修理后的腭杆与组织面密合，应该先去除腭杆，把义齿戴入患者口中后重新取印模，在模型上重新加腭杆。
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患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A．不做处理，让患者将义齿戴走B．腭杆组织面加自凝树脂重衬C．腭杆组织面缓冲D．取下腭杆E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
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一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是（）A、不做处理，让患者将义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
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