单选题一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()。A不做处理,让患者把义齿戴走B腭杆组织面加自凝树脂重衬C腭杆组织面缓冲D取下腭杆E取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

单选题
一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()。
A

不做处理,让患者把义齿戴走

B

腭杆组织面加自凝树脂重衬

C

腭杆组织面缓冲

D

取下腭杆

E

取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆


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患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

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