单选题一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。A不做处理，让患者把义齿戴走B腭杆组织面加自凝树脂重衬C腭杆组织面缓冲D取下腭杆E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
单选题
一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。
A
不做处理，让患者把义齿戴走
B
腭杆组织面加自凝树脂重衬
C
腭杆组织面缓冲
D
取下腭杆
E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
参考解析
解析：
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