单选题患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()A取下腭杆B腭杆组织面缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

单选题
患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()
A

取下腭杆

B

腭杆组织面缓冲

C

腭杆组织面加自凝树脂重衬

D

不做任何处理

E

取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆


参考解析

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一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A.不做处理,让患者将义齿戴走B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.腭杆组织面缓冲D.取下腭杆E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

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