一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是（）A、不做处理，让患者将义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是（）
- A、不做处理，让患者将义齿戴走
- B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
- C、腭杆组织面缓冲
- D、取下腭杆
- E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
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患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颁局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A．取下腭杆B．腭杆组织面加自凝树脂重衬C．不做处理，让患者将义齿戴走D．腭杆组织面缓冲E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A．不做处理，让患者将义齿戴走B．腭杆组织面加自凝树脂重衬C．腭杆组织面缓冲D．取下腭杆E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是( )。A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A.腭杆组织面缓冲B.取下腭杆C.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆D.不做处理，让患者把义齿戴走E.腭杆组织面加自凝树脂重衬
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是（）A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A、不做处理，让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法为（ ）。A腭杆组织面加自凝树脂重衬B不做处理，让患者将义齿戴走C腭杆组织面缓冲D取下腭杆E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是（）A不做处理，让患者将义齿戴走B腭杆组织面加自凝树脂重衬C腭杆组织面缓冲D取下腭杆E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（ ）。A取下腭杆B腭杆组织面缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
单选题患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A取下腭杆B腭杆组织面缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆