NPN型晶体管和PNP型晶体管都含有三个掺杂区,分别是发射区,基区和集电区

NPN型晶体管和PNP型晶体管都含有三个掺杂区,分别是发射区,基区和集电区


参考答案和解析
C

相关考题:

晶体管的发射区的作用是向基区发射自由电子,集电区的作用是收集这些自由电子。() 此题为判断题(对,错)。

三极管哪个区的掺杂浓度最高() A、基区B、发射区C、集电区D、不确定

关于BJT的结构特点说法错误的是()。A、基区很薄且掺杂浓度很低B、发射区的掺杂浓度远大于集电区掺杂浓度C、基区的掺杂浓度远大于集电区掺杂浓度D、集电区面积大于发射区面积

晶体管的内部放大条件是:发射区重掺杂,基区轻掺杂且宽度很窄,集电极面积大等。()

NPN型晶体管的发射区是()型半导体,集电区是()型半导体,基区是()型半导体。

NPN型和PNP型晶体管的区别是()。 A、由两种不同的材料硅和锗制成B、掺入的杂质不同C、P区和N区的位置不同D、电流放大倍数不同

晶体管的基区之所以做得很薄,是为了减少电子和空穴在基区的复合机会,从而使由发射区进入基区的载流子,绝大部分能进入集电区而形成较大的集电极电流。() 此题为判断题(对,错)。

晶体管能够放大的内部条件是()。 A.两个背靠背的PN结B.自由电子与空穴都参与导电C.有三个掺杂浓度不同的区域D.发射区高掺杂;基区很薄;集电区掺杂浓度低但面积大

晶体管的内部结构分为三个区,即发射区、基区和集电区;两个结为发射和集电结。() 此题为判断题(对,错)。

晶体管包含三个区:集电区,()和发射区。

晶体管的内部结构分为三个区,即发射区、基区和集电区;两个结为发射和集电结。

晶体管分为三层分别为()A、发射区B、放大区C、集电区D、基区E、扩张区

晶体三极管它有三个区和三个引出电极,分别是()。A、集电区(极)B、基区(极)C、控制区(极)D、发射区(极)

每一类晶体管都是由基区、发射区和()三个不同的导电区域构成的。

晶体管热噪声主要存在于()电阻内。A、基区B、发射区C、集电区D、发射区和集电区

根据国产半导体器件命名方法可知,3DG6为()A、NPN型低频小功率硅晶体管B、NPN型高频小功率硅晶体管C、PNP型低频小功率锗晶体管D、NPN型低频大功率硅晶体管

无论是NPN型管还是PNP型管,它们内部均含有三个区,即发射区、基区和()。

PNP型或NPN型晶体管,其发射区和集电区均为同类型半导体(N型或P型)。所以在实际使用中发射极与集电极()。A、可以调换使用B、不可以调换使用C、PNP型可以调换使用,NPN型则不可以调换使用

NPN型和PNP型晶体管的区别是()A、由两种不同材料硅和锗制成的B、渗入的杂质元素不同C、P区和N区的位置不同

根据国产半导体器件型号的命名方法可知,3DG6为()。A、NPN型低频小功率硅晶体管B、NPN型高频小功率硅晶体管C、PNP型低频小功率锗晶体管D、NPN型低频大功率硅晶体管

晶体管内部由3层半导体材料构成,分别称为发射区、基区和集电区,结合处形成两个PN结,分别称为发射极和集电极。

晶体管符号上的箭头朝外,则表示为()。A、NPN型晶体管;B、PNP型晶体管;C、硅管;D、锗管。

晶体管的基本类型有PNP型和NPN型两种。

三极管有三个PN结和三个区—发射区、集电区、基区。

单选题晶体管是由单层半导体材料组成的。有三个区域,中间的一层为()。A基区B栅区C集电区D发射区

填空题每一类晶体管都是由基区、发射区和()三个不同的导电区域构成的。

填空题晶体管包含三个区:集电区,()和发射区。

判断题标准双极型工艺中的纵向NPN晶体管的发射区掺杂浓度比集电区小。A对B错