单选题患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A取下腭杆B腭杆组织面缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
单选题
患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）
A
取下腭杆
B
腭杆组织面缓冲
C
腭杆组织面加自凝树脂重衬
D
不做任何处理
E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
参考解析
解析：
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