初戴上颌局部义齿时,如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A.不必处理B.取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆C.腭杆组织面加白凝树脂重衬D.去腭杆,让患者戴走E.腭杆组织面缓冲

初戴上颌局部义齿时,如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是

A.不必处理
B.取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
C.腭杆组织面加白凝树脂重衬
D.去腭杆,让患者戴走
E.腭杆组织面缓冲

参考解析

解析:

相关考题:

患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

初戴上颌局部义齿时,如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A、不必处理B、腭杆组织面加白凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、去腭杆,让患者戴走E、取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复。初戴时,发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是A.不必处理B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.腭杆组织面缓冲D.去除腭杆,让患者将义齿戴走E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A.不做处理,让患者将义齿戴走B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.腭杆组织面缓冲D.取下腭杆E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是A.不做处理B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.基托组织面缓冲D.取下腭杆,用自凝树脂修补缺口E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

初戴上颌局部义齿时,如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm.处理方法是()A、不必处理B、腭杆组织面加白凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、去腭杆,让患者戴走E、取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是()A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()A、不做处理,让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

单选题一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()。A不做处理,让患者把义齿戴走B腭杆组织面加自凝树脂重衬C腭杆组织面缓冲D取下腭杆E取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

单选题一患者上颌局部义齿修复,义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是下列哪项?(  )A取下腭杆B腭杆组织面做缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

单选题患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()A取下腭杆B腭杆组织面缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆