一患者上颌局部义齿修复。初戴时，发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是A．不必处理B．腭杆组织面加自凝树脂重衬C．腭杆组织面缓冲D．去除腭杆，让患者将义齿戴走E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。初戴时，发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是
A．不必处理
B．腭杆组织面加自凝树脂重衬
C．腭杆组织面缓冲
D．去除腭杆，让患者将义齿戴走
E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
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患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、不必处理B、腭杆组织面加白凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、去腭杆，让患者戴走E、取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是 A、不做处理，让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A．不做处理，让患者将义齿戴走B．腭杆组织面加自凝树脂重衬C．腭杆组织面缓冲D．取下腭杆E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是( )。A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是A.不做处理B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.基托组织面缓冲D.取下腭杆，用自凝树脂修补缺口E.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A.不必处理B.取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆C.腭杆组织面加白凝树脂重衬D.去腭杆，让患者戴走E.腭杆组织面缓冲
一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A.腭杆组织面缓冲B.取下腭杆C.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆D.不做处理，让患者把义齿戴走E.腭杆组织面加自凝树脂重衬