近代粒子物理学研究表明，物质构成的最小单元是原子。
近代粒子物理学研究表明，物质构成的最小单元是（）。A．分子和原子 B．原子核和中子 C．原子核和亚原子 D．夸克和轻子
放射性物质的原子核因放出某种粒子而转变为另一种原子核的变化叫做激变。
溅射法是由（）轰击靶材表面，使靶原子从靶表面飞溅出来淀积在衬底上形成薄膜。A、电子B、中性粒子C、带能离子
（）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。A、溅射率B、溅射系数C、溅射效率D、溅射比
（）是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。A、蒸镀B、离子注入C、溅射D、沉积
（）是通过把被蒸物体加热，利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。A、蒸镀B、溅射C、离子注入D、CVD
光学镜片表面耐磨损膜的处理方法主要是（）。A、提升法B、真空电镀法C、阴极溅射法D、离子镀法
纳米粒子粒径从100nm减小至1nm，其表面原子占粒子中原子总数比例将（）。
在组成物质的原子中，有不同数量的粒子（电子）分布在不同的能级上，在高能级上的粒子受到某种光子的激发，会从高能级跳到（跃迁）到低能级上，这时将会辐射出与激发它的光相同性质的光，而且在某种状态下，能出现一个弱光激发出一个强光的现象。这就叫做“受激辐射的光放大”，简称（）
在电刷镀中的镀笔与工件接触的部位，镀液中的金属离子在电场力的作用下扩散到工件表面，工件表面的金属离子获得电子被还原成金属原子，这些金属原子在工件表面沉积结晶，形成镀层。
利用直流电流或脉冲电流作用从电解质中析出金属，并在金属表面沉积而获得金属覆盖层的方法叫（）.A、电镀B、喷镀C、化学镀D、热镀
简述热蒸镀（真空蒸发）膜与离子溅射膜的区别和优缺点。
（）方法是大规模集成电路生产中用来沉积不同金属的应用最为广泛的技术。A、蒸镀B、离子注入C、溅射D、沉积
对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用（）方法引入到硅片中。A、离子注入B、溅射C、淀积D、扩散
下列物质的用途与该物质的物理性质有关的是（）A、用硫酸除去金属表面的铁锈B、用氧气炼钢、炼铁C、用氢气作高能燃料D、用干冰进行人工降雨
现代物理观认为，原子及原子核是物质结构的（）。A、最小单元B、基本单元C、微小单元D、两种基本粒子
构成物质并保持物质物理特性的最小粒子是（）.A、分子B、原子C、质子D、中子
物质从液态变成气态的过程叫汽化，汽化发生在液体表面的现象叫沸腾（）
判断题离子溅射镀膜与离子镀过程原理是一样的。A对B错
单选题集成电路生产中，金属薄膜的沉积通常采用（）A溅射物理气相沉积B蒸发物理气相沉积C等离子增强化学气相沉积D低压化学气相沉积
判断题CVD是利用某种物理过程，例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移，即原子或分子由源转移到衬底（硅）表面上，并淀积成薄膜。A对B错
单选题下列物质的用途与该物质的物理性质有关的是（）A用硫酸除去金属表面的铁锈B用氧气炼钢、炼铁C用氢气作高能燃料D用干冰进行人工降雨
判断题离子注入的能量远低于离子刻蚀和离子溅射沉积。A对B错
单选题离子束加工技术利用注入效应加工的是（）A离子束刻蚀B溅射镀膜C离子镀D离子注入