与其他气体放电形式相比，电弧放电是电流最( )的一种气体放电现象。A、大B、小
在气体与液体或气体与固体的交界面上,由于电压分布不均匀而造成的击穿现象称为()放电。 A.辉光B.电弧C.沿面
辉光放电多发生在所压不太低时,是高压放电试验中常见的现象。()
一般的霓虹灯的放电是处在（）放电阶段，用于照明的气体放电灯大多数是属于（）放电。A、辉光、弧光B、弧光、辉光C、辉光、辉光D、弧光、弧光
电流传导时气体中出现的效应称为（）A、辉光现象B、电晕现象C、气体放电D、他激式气体放电
在气体与液体或气体与固体的交界面上，由于电压分布不均匀而造成的击穿现象称为（）放电。A、辉光B、电弧C、沿面
气体放电主要几种形式有（）。A、火花放电B、辉光放电C、电晕放电D、电弧放电
（）是通过把被蒸物体加热，利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。A、蒸镀B、溅射C、离子注入D、CVD
用高能粒子从某种物质的表面撞击出原子的物理过程叫（）。A、蒸镀B、离子注入C、溅射D、沉积
低气压（≤1大气压）均匀电场情况下，气体放电的主要外形形式为（）。A、火光放电B、辉光放电C、电晕放电D、电弧放电
关于气体放电，下列说法哪一种不正确（）A、霓虹灯的基本原理是辉光放电B、电炉炼钢、电弧焊的基本原理是弧光放电C、雷电的闪电式弧光放电D、天气潮湿时输电导线容易发生电晕放电
简述热蒸镀（真空蒸发）膜与离子溅射膜的区别和优缺点。
（）方法是大规模集成电路生产中用来沉积不同金属的应用最为广泛的技术。A、蒸镀B、离子注入C、溅射D、沉积
下面不是制造非晶硅太阳电池常用的方法是（）。A、辉光放电法B、反应溅射法C、化学气相沉积法D、电镀法
涂镀是在工件表面指定的区域，快速（）的一种技术手段.A、涂镀B、金属C、电沉积金属D、表面
气体放电的主要形式有（）。A、火花放电B、辉光放电C、电弧放电D、电晕放电
最常见的气体放电现象不包括（）。A、电晕放电B、火花放电C、电弧放电D、辉光放电
沿液体和固体电介质分界面的放电现象称为液体电介质中的（）。A、辉光放电B、电晕放电C、击穿D、沿面放电
单选题低气压（≤1大气压）均匀电场情况下，气体放电的主要外形形式为（）。A火光放电B辉光放电C电晕放电D电弧放电
填空题根据引起气体放电的机理不同，可形成不同的溅射镀膜方法，主要有（）溅射、（）溅射、反应溅射、磁控溅射等方法。
单选题涂镀是在工件表面指定的区域，快速（）的一种技术手段.A涂镀B金属C电沉积金属D表面
单选题与其他气体放电形式相比，电弧放电是电流最（）的一种气体放电现象。A大B小
判断题离子注入的能量远低于离子刻蚀和离子溅射沉积。A对B错
单选题离子束加工技术利用注入效应加工的是（）A离子束刻蚀B溅射镀膜C离子镀D离子注入