单选题初戴上颌局部义齿时,发现弯制的后腭杆离开腭粘膜2mm,处理方法是( )。A不必处理B腭杆组织面加自凝树脂重衬C腭杆组织面缓冲D去除腭杆,让患者戴走E取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
单选题
初戴上颌局部义齿时,发现弯制的后腭杆离开腭粘膜2mm,处理方法是( )。
A
不必处理
B
腭杆组织面加自凝树脂重衬
C
腭杆组织面缓冲
D
去除腭杆,让患者戴走
E
取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
参考解析
解析:
暂无解析
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患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
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