单选题某患者,男,54岁,双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失,设计钻铬合金铸造支架,双侧后腭杆连接,义齿初戴时,发现后腭杆离开组织面2mm,最佳处理方法是()A腭杆组织面缓冲,不做任何处理B腭杆组织面加自凝树脂重衬C用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合D将后腭杆切割,调整正确位置后焊接E取印模重新制作支架

单选题
某患者,男,54岁,双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失,设计钻铬合金铸造支架,双侧后腭杆连接,义齿初戴时,发现后腭杆离开组织面2mm,最佳处理方法是()
A

腭杆组织面缓冲,不做任何处理

B

腭杆组织面加自凝树脂重衬

C

用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合

D

将后腭杆切割,调整正确位置后焊接

E

取印模重新制作支架


参考解析

解析: 暂无解析

相关考题:

某患者,男,54岁,双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失,设计钴铬合金铸造支架,双侧后腭杆连接,义齿初戴时,发现后腭杆离开组织面2mm,最佳处理方法是A、腭杆组织面缓冲,不做任何处理B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、用技工钳调整后腭杆与腭黏膜贴合D、将后腭杆切割,调整正确位置后焊接E、取印模重新制作支架

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A.不做处理,让患者将义齿戴走B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.腭杆组织面缓冲D.取下腭杆E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是( )。A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

某患者,男,54岁,双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失,设计钻铬合金铸造支架,双侧后腭杆连接,义齿初戴时,发现后腭杆离开组织面2mm,最佳处理方法是 ( )A.将后腭杆切割,调整正确位置后焊接B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.腭杆组织面缓冲,不做任何处理D.用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合E.取印模重新制作支架

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是()A、不做处理,让患者将义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

某患者,男,54岁,双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失,设计钻铬合金铸造支架,双侧后腭杆连接,义齿初戴时,发现后腭杆离开组织面2mm,最佳处理方法是()A、腭杆组织面缓冲,不做任何处理B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合D、将后腭杆切割,调整正确位置后焊接E、取印模重新制作支架

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是()A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()A、不做处理,让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法为(  )。A腭杆组织面加自凝树脂重衬B不做处理,让患者将义齿戴走C腭杆组织面缓冲D取下腭杆E取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

单选题初戴上颌局部义齿时,发现弯制的后腭杆离开腭粘膜2mm,处理方法是(  )。A不必处理B腭杆组织面加自凝树脂重衬C腭杆组织面缓冲D去除腭杆,让患者戴走E取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是()A不做处理,让患者将义齿戴走B腭杆组织面加自凝树脂重衬C腭杆组织面缓冲D取下腭杆E取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

单选题某患者,男,54岁,双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失,设计钻铬合金铸造支架,双侧后腭杆连接,义齿初戴时,发现后腭杆离开组织面2mm,最佳处理方法是()。A腭杆组织面缓冲,不做任何处理B腭杆组织面加自凝树脂重衬C用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合D将后腭杆切割,调整正确位置后焊接E取印模重新制作支架

单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是().A取下腭杆B腭杆组织面做缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是(  )。A取下腭杆B腭杆组织面缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

单选题一患者上颌局部义齿修复,义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是下列哪项?(  )A取下腭杆B腭杆组织面做缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

单选题某患者,男,54岁,双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失,设计钴铬合金铸造支架,双侧后腭杆连接,义齿初戴时,发现后腭杆离开组织面2mm,最佳处理方法是()A腭杆组织面缓冲,不做任何处理B腭杆组织面加自凝树脂重衬C用技工钳调整后腭杆与腭黏膜贴合D将后腭杆切割,调整正确位置后焊接E取印模重新制作支架