（）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。A、溅射率B、溅射系数C、溅射效率D、溅射比
（）主要是以化学反应方式来进行薄膜沉积的。A、PVDB、CVDC、溅射D、蒸发
溅射的方法非常多其中包括（）。A、直流溅射B、交流溅射C、反应溅射D、二级溅射E、三级溅射
下面哪一种薄膜工艺中底材会被消耗（）。A、薄膜沉积B、薄膜成长C、蒸发D、溅射
从电极的结构看，溅射的方法包括（）。A、直流溅射B、交流溅射C、二级溅射D、三级溅射E、四级溅射
用真空蒸发与溅射法在硅片或二氧化硅膜上涂敷金属材料，是形成电极的（）。A、重要步骤B、次要步骤C、首要步骤D、不一定
简述热蒸镀（真空蒸发）膜与离子溅射膜的区别和优缺点。
（）专指薄膜形成的过程中，并不消耗晶片或底材的材质。A、薄膜成长B、蒸发C、薄膜沉积D、溅射E、以上都正确
因特网与广域网的异同点是什么？因特网与万维网的异同点又是什么？
填空题根据引起气体放电的机理不同，可形成不同的溅射镀膜方法，主要有（）溅射、（）溅射、反应溅射、磁控溅射等方法。
判断题常用的溅射镀膜方法有直流溅射、射频溅射、磁控溅射，其中磁控溅射的气压最低、靶电流密度最高。A对B错
问答题因特网与广域网的异同点是什么？因特网与万维网的异同点又是什么？
填空题在玻璃衬底上制备透明导电膜的方法有：（）、涂覆法、浸渍法、化学气相沉淀法、真空蒸发法、溅射法等。
问答题比较磁控溅射法与化学气相沉积法的特点是什么？
问答题为溅射做一个简短的解释，并描述它的工作方式？溅射适合于合金淀积吗？溅射淀积的优点是什么？